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上海微系統(tǒng)所狄增峰研究員團(tuán)隊(duì)“人造藍(lán)寶石晶體介質(zhì)助力低功耗芯片發(fā)展”研究成果入選“中國(guó)芯片科學(xué)十大進(jìn)展”

2025-10-22 08:34:10來源:中國(guó)科學(xué)院上海微系統(tǒng)與信息技術(shù)研究所 閱讀量:3705 評(píng)論

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  10月15日,第三屆芯片大會(huì)暨Chip 2024中國(guó)芯片科學(xué)十大進(jìn)展頒獎(jiǎng)典禮于深圳盛大開幕,在深圳市領(lǐng)導(dǎo)、院士嘉賓、產(chǎn)學(xué)研各界1500人見證下,Chip期刊正式發(fā)布「Chip 2024中國(guó)芯片科學(xué)十大進(jìn)展」及「Chip 2024中國(guó)芯片科學(xué)十大進(jìn)展提名獎(jiǎng)」。
 
  上海微系統(tǒng)所狄增峰、田子傲團(tuán)隊(duì)開發(fā)的面向二維集成電路的單晶金屬氧化物柵介質(zhì)晶圓研究成果入選“Chip 2024中國(guó)芯片科學(xué)十大進(jìn)展”。
 
  該研究團(tuán)隊(duì)開發(fā)了一種創(chuàng)新的金屬插層氧化技術(shù),技術(shù)的核心是室溫下精準(zhǔn)操控氧原子逐層嵌入鋁晶格,形成有序單晶氧化鋁。該材料即便僅1納米厚,仍能保障電子傳輸穩(wěn)定、阻止電流泄漏,可顯著提高芯片能效。
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